雷射干涉微影(Laser interference lithography)、消色差干涉(frequency tripling)、光平坦化(flattop beam)、非線性光學效應(achromatic interference lithography)

矽光子檢測(Silicon Photonics)、晶圓級邊緣耦光技術(Wafer-Level Edge Coupling)、雙光子微影技術(Two-Photon Lithography)、非平面對位加工(Non-Planar Alignment Processing)、夾治具設計(Fixture Design)、光點對位(Light Spot Alignment)、影像處理(Image Processing)

矽光子(Silicon Photonics)、雙光子聚合(Two-Photon Polymerization)、光子引線(Photonic Wire Bond)、光學模擬(Optical Simulation)、影像辨識(Image Recognition)、二次製程(Secondary Process)

矽光子(Silicon Photonic)、晶圓級邊緣耦光(Wafer-level Edge Coupling)、雙光子微影(Two-Photon Lithography)、夾治具設計(Fixture Design)、纖芯照明定位(Fiber Core Illumination and Positioning)

光耦合問題(Photonic Wire Bonding)、雙光子微影(Photonic Integrated Circuit)、光子引線(Two-photon lithography)、光纖與波導(Waveguide and fiber)、光學模擬計算(undefined)、矽光子封裝(undefined)

雙光子聚合(Two-photon Polymerization)、矽光子晶片封裝(Silicon Photonics Packaging)、自動對位(Automatic Alignment)、傾斜校正(Tilt Correction)、特徵提取(Feature Extraction)

光子積體電路(Photonic Integrate circuit)、光子引線(Photonic Wiring Bonding)、雙光子微影技術(Two-photon Polymerization)、負光阻(Negative Photoresist)、環氧樹脂型光阻(Epoxy-based Photoresist)、光阻開發(Photoresist Development)

電容式微機電傳感器(Capacitor Ultrasound Micromachined Transducer(CMUT))、超聲波(Silicidation)、鎳基矽化物(Nickel-Silicide)、機電耦合(Rapid Thermal Annealing (RTA))、矽化物(Electromechanical Coupling)、快速熱退火(undefined)

顯微系統(Microscope)、自動化控制(Automation)、組織影像(Imaging)、人工智慧(AI)

雙光子微影(Two-Photon Polymerization)、振鏡加工系統(Scanner System)、雷射功率控制(Laser Power Control)、平台同動(Scanner Stage Synchronization)

雙光子聚合(Two-Photon Polymerization)、對位(alignmnet)、視覺伺服控制(visual servo control)、姿態預測(pose estimation)、對位標記(alignmnet marker)

雙光子聚合(two-photon polymerization)、振鏡系統(galvanometer system)、光柵(grating structure)、大面積製造(large area manufacturing)

雙光子聚合(two-photon polymerization)、負光阻材料(negative photoresist)、環氧樹脂型光阻(SU8)、有機-非有機混合型光阻(SQ50)、丙烯酸酯型光阻(OrmoComp)、雷射直寫(mixed resin)

雙光子微影技術(two-photon lithography technology)、雙光子聚合(two-photon polymerization)、路徑規劃(path planning)、輪廓掃描法(contour scanning method)、等向內偏法(isotropic offset algorithm)、電腦輔助設計製造軟體(computer-aided design and manufacturing software)

雙光子聚合(two-photon polymerization)、振鏡(galvanometer)

雷射干涉微影(Laser interference lithography)、物聯網(Internet of things)、遠端監控(Remote monitoring)、光柵結構(Grating structure)

雙光子聚合(two-photon polymerization)、分區製造(subregion fabrication)、路徑規劃(path planning)、路徑合成(path combining)、複合式透鏡(micro compound lens)、鷹眼鏡頭(foveated imaging)

三氧化鎢(Tungsten trioxide)、氣體感測器(Gas sensor)、奈米粉末(Nanoparticle)

雷射干涉微影(Laser interference lithography)、奈米結構(nanostructure)、週期性陣列(undefined)

雙光子聚合(Two-photon Polymerization)、微光學元件(Micro-optical Array)、微透鏡陣列(MLA)、凸型(Convex)、凹型(Concave)

專利分析(Patent Analysis)、申請專利範圍(權利請求項)(Claim)、申請專利範圍為基之技術分析(Claim-based Technology Analysis)、獨立項(Independent Claim)、專利檢索(Patent Search)、奈米結構(Nanostructure)、奈米級(Nanoscale)、雙光子聚合(Two-Photon Polymerization (TPP))、雙光子聚合3D列印(Two Photon Polymerization based 3D Printing (TPP-3DP))、雷射干涉微影(Laser Interference Lithography (LIL))

微流體(Microfluidics)、三維細胞培養(Three-dimensional cell culture)、藥物測試(Drug testing)

雷射干涉微影(lithography)、智慧化(intelligent)

奈米3D微影技術(Nano 3D lithography)、CMC糖薄膜(CMC film)、正光阻(Positive photoresist)、薄膜分離(Film separation)

雙光子聚合(Two Photon Polymerization)、微透鏡(Microlens)、複合式微透鏡(Compound lens)

雷射干涉微影技術(Laser interference lithography)、多光束干涉微影(Multi-beam LIL)、莫爾條紋缺陷(Moiré pattern defects)

奈米3D微影技術(Nano 3D Lithography)、雙光子聚合(Two Photon Polymerization)、劑量累積(dosage accumulation)、模擬程式(simulation program)、參數優化(parameter optimization)

奈米3D微影技術(Nano 3D Lithography)、高速自動對焦(High-speed Autofocus System)、疏油結構(Omniphobic Surface)、疏水結構(Structure Array)、結構陣列(undefined)

雷射干涉微影(laser interference lithography)、莫爾條紋(Moire pattern)、截波器(optical chopper)、抑振(vibration)

奈米3D微影技術(Nano 3D lithography technology)、STP策略(STP strategy)、SWOT分析(SWOT analysis)、波特五力分析(Michael Porter's Five Forces Model)

奈米3D微影技術(Nano-3D lithography)、生物相容性光阻(biocompatible photoresist)、生物支架(cell scaffold)、肝小葉(hepatic lobule)

果蠅(Drosophila)、果蠅睡眠平台(undefined)

錐狀微結構(Micro-cone structure)、奈米3D微影技術(Nano 3D lithography)、微針陣列(Microneedle array)、SU8(SU8)、AFM探針(AFM tip)

SU8(SU8)、雙光子聚合(Two Photon Polymerization)、連續雷射(532nm CW-laser)、光諧振器(Photonic Crystal)、光子晶體(Optical Resonator)、三維結構製作(Three-dimensional Fabrication)

雷射干涉微影(Laser interference lithography)、均勻度()、光束整形(Uniformity)、高斯分布(Beam shaping)、平頂分布(Gaussian distribution)、薄膜干涉(Flat top distribution)

雷射干涉微影(Laser interference lithography)、線性偏振片(Wire-grid polarizer)、電子束蒸鍍(E-gun evaporation)、出平面加速度計(Out-of-plane accelerometer)

雷射干涉微影(Laser Interference Lithography)、消色差干涉微影(Achromatic Interference Lithography)、相位光柵(Phase Grating)、奈米級圖案化藍寶石基板(Nano-Patterned Sapphire Substrate)、多次曝光干涉微影(Multi-Exposure Interference Lithography)

溫度調控、自動化、即時

雷射干涉微影、光形監測

光熱治療(Photothermal therapy)、聚吡咯(Polypyrrole)、微針(Microneedle patch)

微針、黑色素沈澱、經皮傳輸

奈米壓印、黃光微影、二氧化鈦結構、成骨細胞

圖案化藍寶石基板、雷射干涉微影、奈米級圖案化藍寶石基板、多次曝光干涉微影、多光束干涉微影