二硫化鉬(molybdenum disulfide)、二硒化鉬(molybdenum diselenide)、氧氣電漿表面處理(oxygen plasma treatment)、電漿表面清潔(plasma surface cleaning)、電極接觸工程(contact engineering)

硫化鋅鎘(CdZnS)、二硒化鉬(MoSe2)、光催化產氫(Photocatalytic Hydrogen Evolution)、相轉換(Phase Engineering)

電催化(Electrocatalysis)、氮還原(Nitrogen reduction reaction)、異質結構(Heterostructure)、過渡金屬(Transition metal)、氧化鉻(Cr2O3)、硫化鈷(CoS)

TEM臨場觀測(In-situ TEM)、氧化鎵奈米線(Ga2O3 nanowires)、鈦(Titanium)、介面工程(Interface engineering)、歐姆接觸(Ohmic contact)、擴散(Diffusion)

有限元素法(finite element method)、產氫反應(piezocatalyst)、氧空缺(hydrogen evolution)、水分解(oxygen vacancy)、壓電催化劑(water splitting)、鈦酸鉍鈉(Bi1/2Na1/2TiO3)、染料降解(dye degradation)、鐵酸鉍(BiFeO3)、多鐵性(multiferroics)

昇華行為(Sublimation behavior)、熱穩定性(Thermal stability)、表面能(Surface energy)、臨場穿透式電子顯微鏡(In-situ transmission electron microscopy,)、銀奈米顆粒(Ag nanoparticle)、核-殼結構奈米顆粒(Core-shell nanoparticle)

臨場觀測(In-situ TEM)、擴散阻礙層(diffusion barrier)、熱擴散反應(thermal diffusion)、矽(Silicon)、釕(Ruthenium)、二硫化鉬(MoS2)、氧電漿(Oxygen plasma treatment)

電催化(Electrocatalysis)、氮還原(nitrogen reduction reaction)、二硫化鉬(MoS2)、過渡金屬(transition metal)、摻雜(heteroatom doping)

高介電常數材料(High-k materials)、介電常數(dielectric constant)、電漿子(plasmonics)、奈米雷射(nanolaser)、半導體(SIM hybrid structure)、絕緣體(undefined)、金屬複合結構(undefined)

產氫反應(hydrogen)、氧化鋅(production)、長寬比(ZnO)、氧缺陷(aspect)、有限元素模擬(ratio)

壓電-光催化產氫(Piezo-photocatalytic hydrogen production)、水熱法合成(Hydrothermal method)、異質結構(Heterostructures)、壓電材料(Piezoelectric materials)

電子顯微鏡臨場觀測(in situ TEM)、擴散(diffusion)、軸向(axial, radial nanoheterostructures)、徑向奈米異質結構(preferential nucleation sites)、優先成核位置(interface)、介面(ZnO nanowires)、氧化鋅奈米線(undefined)

二維材料(TMDs)、過渡金屬二硫族化合物(undefined)、二維金屬(undefined)、二硫化鎢鈮(undefined)、凡得瓦異質結構(undefined)

臨場觀測(in-situ)、銀奈米線(silver nanowire)、電遷移(electromigration)、疊差(stacking fault)

奈米銀線(Silver Nanowire)、透明導電薄膜(Transparent Conductive Film)

高熵合金(High-Entropy Alloy)、晶格扭曲(Lattice Distortion)、穿透式電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope)、析出物成長動力學(Coarsening Kinetics)

三硫化鈦(metal-to-insulator transition)、非等向性(polar optical phonon)、線性二色性(undefined)、表面主導傳導機制(undefined)

二維材料(two-dimensional materials)、二硫化鎢(WS2)、二硒化鎢(WSe2)、異質材料(Heterostructures)、低壓化學氣相沉積法(LPCVD)

異質結構(Heterostructures)、二硫化鎢(Molybdenum disulfide)、二硫化鉬(Tungsten disulfide)、光催化產氫(Photocatalytic hydrogen production)、液相剝離法(Liquid phase exfoliation)

矽鍺奈米線(Si1-xGex)、鎳矽化物(Nickel silicide)、臨場觀察(in-situ TEM)、擴散機制(Diffusion mechanism)、擴散阻礙層(Diffusion barrier)